 |
|
|
27.МБ.49. Проблема сточных вод при обработке поверхностей
The art and science of water rinsing. Mooney Ted. Metal Finish.. 2004. 102, № 4A, с. 111–119. Англ.
Указывается, что например в гальваническом производстве обработка поверхностей изделий производится в емкостях с рабочими растворами, после извлечения из них изделия подвергаются промывке на одной или нескольких стадиях. Проблемой является то, что СВ от промывочных емкостей содержат небольшие количества загрязнителей, в приводимом примере содержание рабочего агента в основной емкости принято за 100%, тогда после первой промывочной емкости СВ содержат его как загрязнитель в количестве 3,21% и после второй 0,1%. Предлагаются различные способы снижения затрат на обработку промывных СВ, например, СВ после последней промывки используются на первой стадии, таким образом производится их концентрирование. Для обработки этих СВ с целью возвращения в рецикл могут быть использованы методы электродиализа, фильтрования на мембранах и т. д..
Ключевые слова: АКК сточные воды, н рецикл, АКК гальваническое производство, к обработка поверхности, АНН очистка, АКК электродиализ, АКК мембранная технология
|
|
|
|
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|
