 |
|
28.МБ.92. Способ и устройство для подготовки воды
Pulsed blackbody radiation flux enhancement. . Пат. 6761826 США, МПК 7 C 02 F 1/30. New Star Lasers, Inc., Bender Jim. №10/007310; Заявл. 30.11.2001; Опубл. 13.07.2004; НПК 210/748. Англ. В настоящее время грунтовые воды содержат различные устойчивые загрязнители, например, трет-бутилэфир (присадка к автомобильному топливу). Предлагается деструктировать эти загрязнители с использованием УФ-радиации в пульсирующем режиме. За счет незначительной длительности импульсов (в масштабе микросекунд) обеспечивается возможность генерировать потоки излучения с интенсивностью до 170000 Вт/см2 при мощности излучателя до 40000 Вт. В результате в слое жидкости, прилежащем к излучателю, создается ее пленка с температурой до 20000 К и образуются озон, пероксид водорода, гидроксил-радикалы и др. агенты, деструктирующие загрязнители. На второй ступени включен модуль ультрафильтрации на базе половолоконных мембран, задерживающий образующиеся продукты деструкции.
Ключевые слова: []АКК вода, н подготовка, способ, устройство, АКК облучение, н УФ, использование, АКК вода технология
|
|
 |
 |
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|